中科院研發(fā)新型激光光刻技術(shù):不用EUV 直擊5nm
發(fā)布時間:2020-07-09 09:32:59 分類: 新聞中心 瀏覽量:49
國產(chǎn)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈,,又迎好消息,。
近日,,據(jù)中國微米納米技術(shù)學(xué)會報道,,中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所張子旸研究員,,與國家納米科學(xué)中心劉前研究員合作,,在《納米快報》(Nano Letters)上發(fā)表了題為《超分辨率激光光刻技術(shù)制備 5nm 間隙電極和陣列》(5 nm Nanogap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography)的研究論文,論文講述了該團(tuán)隊(duì)開發(fā)的新型 5 nm 超高精度激光光刻加工方法,。
據(jù)悉,,《納米快報》是由美國化學(xué)學(xué)會出版的每月經(jīng)同行評審的科學(xué)雜志,,其成立于 2001 年 1 月,該期刊涵蓋了納米科學(xué)和納米技術(shù)及其子學(xué)科的各個方面,。
本次論文第一作者為中科院蘇州納米所與中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)聯(lián)合培養(yǎng)碩士研究生秦亮,。中科院蘇州納米所與蘭州大學(xué)聯(lián)合培養(yǎng)的博士研究生黃源清、和青島大學(xué)物理學(xué)院夏峰為論文共同第一作者,。 張子旸研究員和劉前研究員,, 為論文的通訊作者。
目前,,本工作已經(jīng)獲得國家重點(diǎn)研究計劃項(xiàng)目,、國家自然科學(xué)基金、Eu-FP7 項(xiàng)目和中國博士后科學(xué)基金的支持,。
微納加工的效率和精度有待提升
當(dāng)前,,亞 10nm 結(jié)構(gòu)在集成電路、光子芯片,、微納傳感,、光電芯片、納米器件等技術(shù)領(lǐng)域,,有著巨大的應(yīng)用需求,,因此微納加工的效率和精度也必須有所提升。

圖 | 亞 10nm 結(jié)構(gòu)的應(yīng)用領(lǐng)域和方向
具體來說,,微納加工包括微制造和納制造兩個方面,。而微制造主要包含兩種工藝方式,一種是基于半導(dǎo)體制造工藝的光刻技術(shù),、LIGA 技術(shù)和鍵合技術(shù)等,,另一種是機(jī)械微加工。
而激光直寫正是一種高性價比光刻技術(shù),,其可以利用連續(xù)激光或脈沖激光,,在非真空條件下實(shí)現(xiàn)無掩模快速刻寫,,使用這種技術(shù),,器件制造成本相對會更低。
然而,,長期以來,,激光直寫技術(shù)由于衍射極限、以及鄰近效應(yīng)的限制,,很難做到納米尺度的超高精度加工,。
在本次研究中,研究團(tuán)隊(duì)使用了他們開發(fā)的具有完全知識產(chǎn)權(quán)的激光直寫設(shè)備,并利用激光與物質(zhì)的非線性相互作用,,來提高加工分辨率,。
這有別于傳統(tǒng)的縮短激光波長、或增大數(shù)值孔徑的技術(shù)路徑,,并打破了傳統(tǒng)激光直寫技術(shù)中,、受體材料為有機(jī)光刻膠的限制。該團(tuán)隊(duì)在研究中,,使用了多種受體材料,,極大擴(kuò)展了激光直寫的應(yīng)用場景。
此外,,研究團(tuán)隊(duì)從激光微納加工中的實(shí)際問題出發(fā),,很好地解決了高效率和高精度之間的固有矛盾,并開發(fā)出新型微納加工技術(shù),,該技術(shù)在集成電路、光子芯片和微機(jī)電系統(tǒng)等眾多微納加工領(lǐng)域,,都擁有著廣闊應(yīng)用前景,。
在本次研究中,研究人員基于光熱反應(yīng)機(jī)理,,設(shè)計并開發(fā)出一種新型三層堆疊薄膜結(jié)構(gòu),。
在無機(jī)鈦膜光刻膠上,采用雙激光束(波長為 405 nm)交疊技術(shù),,通過精確控制能量密度及步長,,實(shí)現(xiàn)了 1/55 衍射極限的突破(NA=0.9),達(dá)到了最小 5 nm 的特征線寬,。
研究團(tuán)隊(duì)還利用上述具有超分辨的激光直寫技術(shù),,實(shí)現(xiàn)了納米狹縫電極陣列結(jié)構(gòu)的大規(guī)模制備。
相較而言,,采用常規(guī)聚焦離子束刻寫的方式,,制備一個納米狹縫電極需要 10 到 20 分鐘,而利用本文開發(fā)的激光直寫技術(shù),,一小時就能制備約 5×10 5 個納米狹縫電極,,其大規(guī)模的生產(chǎn)潛力非常大。

圖 | 雙束交疊加工技術(shù)示意圖(左)和 5 nm 狹縫電極電鏡圖(右)
納米狹縫電極,,作為納米光電子器件的基本結(jié)構(gòu),,有著極為廣泛的應(yīng)用。
該團(tuán)隊(duì)還利用新技術(shù),,制備出以納米狹縫電極作為基本結(jié)構(gòu)的,、多維度可調(diào)的電控納米 SERS 傳感器(SERS 一般指表面增強(qiáng)拉曼,Surface-Enhanced Raman Scattering,簡稱 SERS),。
并能做到在傳感器一維方向上,,對反應(yīng) “熱點(diǎn)” 完成定點(diǎn)可控,實(shí)現(xiàn)類似邏輯門 “0”,、“1” 信號的編碼和重復(fù),,并可通過狹縫間距、和外加電壓的改變,,實(shí)現(xiàn)對反應(yīng) “熱點(diǎn)” 強(qiáng)度的精確可調(diào),,這對表面科學(xué)和痕量檢測等研究有著重要的意義。

圖 | (a)納米 SERS 傳感器的光學(xué)顯微鏡圖,;(b)一維線性掃描下拉曼信號譜,;(c)不同寬度下拉曼信號譜;(d)不同外加電壓下拉曼信號譜
據(jù)方正證券《光刻機(jī)行業(yè)研究框架——專題報告》顯示,,光刻機(jī)作為前道工藝七大設(shè)備之首(光刻機(jī),、刻蝕機(jī)、鍍膜設(shè)備,、量測設(shè)備,、清洗機(jī)、離子注入機(jī),、其他設(shè)備),,價值含量極大,在制造設(shè)備投資額中單項(xiàng)占比高達(dá) 23%,。
同時,,光刻機(jī)的技術(shù)要求極高,涉及精密光學(xué),、精密運(yùn)動,、高精度環(huán)境控制等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)。業(yè)界普遍認(rèn)為,,光刻機(jī)是人類文明的智慧結(jié)晶,,其還被譽(yù)為半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠。
光刻機(jī)分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī),,前者用于芯片制造,,大家熟知的 ASML 的光刻機(jī)便是前道光刻機(jī);后道光刻機(jī)則主要用于芯片封裝,。
目前,,全球前道光刻機(jī)被 ASML、尼康,、佳能完全壟斷,,CR3(業(yè)務(wù)規(guī)模前三名的公司所占的市場份額)高達(dá) 99%。在當(dāng)前局勢下,實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)的國產(chǎn)替代勢在必行,,具有重大戰(zhàn)略意義,。
中科院已經(jīng)深度布局光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈
中科院在光刻機(jī)核心組件方面早有布局。
比如負(fù)責(zé)曝光光學(xué)系統(tǒng)的長春國科精密光學(xué)技術(shù)有限公司,,其背后大股東正是中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所,,第三大股東則是中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所。
此外,,國科精密通過承擔(dān) “國家科技重大專項(xiàng) 02 專項(xiàng)” 核心光學(xué)任務(wù),,建成了國際水平的超精密光機(jī)系統(tǒng)研發(fā)與制造平臺。2016 年,,國科精密研發(fā)的國內(nèi)首套用于高端 IC 制造的 NA0.75 投影光刻機(jī)物鏡系統(tǒng)順利交付用戶,,標(biāo)志著我國超精密光學(xué)技術(shù)已經(jīng)達(dá)到國際先進(jìn)水平。
負(fù)責(zé)光源系統(tǒng)的北京科益虹源光電技術(shù)有限公司,,其背后也有中科院的身影:大股東是中國科學(xué)院光電研究院,,第五大股東則是中國科學(xué)院微電子研究所。
與此同時,,科益虹源也是中國唯一,、世界第三家高能準(zhǔn)分子激光器研發(fā)制造企業(yè),2018 年自主研發(fā)設(shè)計生產(chǎn)成功后,,打破了國外廠商對該技術(shù)產(chǎn)品的長期壟斷。

圖 | 科益虹源生產(chǎn)的光刻用準(zhǔn)分子激光器
負(fù)責(zé)物鏡系統(tǒng)的北京國望光學(xué)科技有限公司,,其第二大股東和第五大股東,,分別是中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所、和中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所,。
國望光學(xué)研發(fā)的我國首套 90nm 節(jié)點(diǎn) ArF 投影光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng),,已于 2016 年順利交付,此項(xiàng)成果標(biāo)志著我國超精密光學(xué)技術(shù)已全面形成,、并躋身國際先進(jìn)行列,。該公司所承接的 110nm 節(jié)點(diǎn) KrF 光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)的產(chǎn)品研發(fā)工作,也已接近尾聲,。
值得注意的是,,中科院背后這些公司之間的關(guān)系也很緊密。例如,,國望光學(xué)是國科精密的間接股東,。